Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры - Иванов-Есипович Н.К.

Название: Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры.

Автор: Иванов-Есипович Н.К.

1979.

Вопросы технологии основного производства радиоэлектронной аппаратуры рассмотрены в книге с позиций физико-химической природы технологического воздействия на исходные материалы и заготовки. Применена новая (в отличие от первого издания 1965 г.) систематизация специфических для отрасли физико-химических технологических процессов, объединяющая их в четыре класса: термические и термохимические, химические и электрохимические, вакуумные, печатные и покровные технологические процессы. Каждый класс рассмотрен на базе обширного фактического материала.
В книге использованы патентные источники, материалы периодических изданий, стандарты.

Производство радиоэлектронной аппаратуры (РЭА) в настоящее время представляет собой крупную отрасль промышленности - радиоэлектронное приборостроение. РЭА входит в состав комплексов связи и управления, навигационных и радиолокационных комплексов всех назначений (наземного, морского, самолетного и космического). Суммарные объемы производства значительны, они вносят существенный вклад в промышленный потенциал страны.

Оглавление:

Предисловие 4
Введение 6
Глава I. Термические и термохимические технологические процессы 12
§ 1. Общие положения 12
§ 2. Пайка низкотемпературными припоями 21
§ 3. Сварка с квазисплавлением 48
§ 4. Лазерная термическая обработка 52
§ 5. Вжигание композитной стеклоэмали с нормированными электрофизическими свойствами 55
§ 6. Металлизация спеканием 67
§ 7. Термохимическое осаждение при реакциях замещения 73
§ 8. Термохимическое осаждение при реакциях термораспада 75
Глава II. Химические и электрохимические технологические процессы 82
§ 1. Общие положения 82
§ 2. Химическая металлизация 87
§ 3. Электрохимическая металлизация 98
§ 4. Технология конверсионных покрытий 108
§ 5. Химическое и электрохимическое травление металлов 113
§ 6. Травление поверхности полимерных материалов 123
§ 7. Очистка поверхности 125
Глава III. Вакуумные технологические процессы 129
§ 1. Общие положения 129
§ 2. Осаждение при термическом испарении в вакууме 140
§ 3. Осаждение в низкотемпературной плазме 144
§ 4. Оксидирование в низкотемпературной плазме 154
Глава IV. Покровные и печатные технологические процессы 160
§ 1. Общие положения160
§ 2. Лакировка, пропитка, заливка 166
§ 3. Трафаретная печать 177
§ 4. Фоторельефная печать 186
Предметный указатель 201



Бесплатно скачать электронную книгу в удобном формате, смотреть и читать:
Скачать книгу Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры - Иванов-Есипович Н.К. - fileskachat.com, быстрое и бесплатное скачивание.

Скачать djvu
Ниже можно купить эту книгу по лучшей цене со скидкой с доставкой по всей России.Купить эту книгу


Скачать книгу Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры - Н.К.Иванов-Есипович - depositfiles.com

Скачать книгу Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры - Н.К.Иванов-Есипович - letitbit.com




Хештеги: #скачать книгу по электронике бесплатно :: #электроника :: #электротехника :: #Иванов-Есипович :: #металлизация спеканием :: #фоторельефная печать