Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры, Иванов-Есипович Н.К., 1979

Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры, Иванов-Есипович Н.К., 1979.

   Вопросы технологии основного производства радиоэлектронной аппаратуры рассмотрены в книге с позиций физико-химической природы технологического воздействия на исходные материалы и заготовки. Применена новая (в отличие от первого издания 1965 г.) систематизация специфических для отрасли физико-химических технологических процессов, объединяющая их в четыре класса: термические и термохимические, химические и электрохимические, вакуумные, печатные и покровные технологические процессы. Каждый класс рассмотрен на базе обширного фактического материала.
В книге использованы патентные источники, материалы периодических изданий, стандарты.




ТЕРМИЧЕСКИЕ И ТЕРМОХИМИЧЕСКИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ.
Термическими и термохимическими называют технологические процессы, стимулированные нагревом (примерно выше 100° С), протекающие при плавлении или диффузии в твердой фазе, и сопровождаемые химическими реакциями. К ним отнесены процессы пайки и сварки, лазерной обработки, вжигания композитной эмали на основе стеклянной фритты с заданными электрофизическими свойствами, металлизации спеканием, термохимического осаждения пленок.

По способу воздействия на объект производства и по применяемому оборудованию технологические процессы данного класса разделяют на изотропные с температурным воздействием па все изделие или поверхность, и локальные, с избирательным воздействием на ограниченной площади (в «точке»). К изотропным относят процессы, выполняемые в печах с заданной газовой средой, в ваннах для пайки, с помощью газотермических напылительных установок, к локальным — точечную сварку и пайку, лазерную обработку.

ОГЛАВЛЕНИЕ.
Предисловие.
Ведение.
Глава I. Термические и термохимические технологические процессы.
§1. Общие положения.
§2. Пайка низкотемпературными припоями.
§3. Сварка с квазисплавлением.
§4. Лазерная термическая обработка.
§5. Вжигание композитной стеклоэмали с нормированными электрофизическими свойствами.
§6. Металлизация спеканием.
§7. Термохимическое осаждение при реакциях замещения.
§8. Термохимическое осаждение при реакциях термораспада.
Глава II. Химические и электрохимические технологические процессы.
§1. Общие положения.
§2. Химическая металлизация.
§3. Электрохимическая металлизация.
§4. Технология конверсионных покрытий.
§5. Химическое и электрохимическое травление металлов.
§6. Травление поверхности полимерных материалов.
§7. Очистка поверхности.
Глава III. Вакуумные технологические процессы.
§1. Общие положения.
§2. Осаждение при термическом испарении в вакууме.
§3. Осаждение в низкотемпературной плазме.
§4. Оксидирование в низкотемпературной плазме.
Глава IV. Покровные и печатные технологические процессы.
§1. Общие положения.
§2. Лакировка, пропитка, заливка.
§3. Трафаретная печать.
§4. Фоторельефная печать.
Литература.
Предметный указатель.



Бесплатно скачать электронную книгу в удобном формате, смотреть и читать:
Скачать книгу Физико-химические основы производства радиоэлектронной аппаратуры, Иванов-Есипович Н.К., 1979 - fileskachat.com, быстрое и бесплатное скачивание.

Скачать файл № 1 - pdf
Скачать файл № 2 - djvu
Ниже можно купить эту книгу, если она есть в продаже, и похожие книги по лучшей цене со скидкой с доставкой по всей России.Купить книги


Скачать - djvu - Яндекс.Диск.

Скачать - pdf - Яндекс.Диск.




Хештеги: #учебник по радиоэлектронике :: #радиоэлектроника :: #электротехника :: #Иванов-Есипович :: #фоторельефная печать